電子半導體行業(yè)對水質的要求極為嚴格,超純水作為一種關鍵的清洗和配液用水,在半導體制造過程中扮演著至關重要的角色。超純水是指去除水中幾乎所有的離子、有機物和微粒,以及溶解氣體和細菌的水。它的電阻率通常在18.2 MΩ·cm以上,總有機碳(TOC)含量低于10 ppb,并且不含有任何微生物。
在半導體制造中,超純水主要用于以下幾個方面:
1. 晶圓清洗:在晶圓制造過程中,需要多次清洗以去除表面的顆粒、金屬離子和其他污染物。超純水的高純凈度確保了清洗過程不會引入新的污染源。
2. 光刻膠去除:光刻是半導體制造中的關鍵步驟,超純水用于去除光刻膠殘留,確保后續(xù)工藝的順利進行。
3. 配液:在半導體制造中,許多化學溶液需要用超純水來配制,以保證溶液的純凈度和穩(wěn)定性。
4. 設備冷卻:半導體制造設備在運行過程中會產(chǎn)生大量熱量,超純水也用于設備的冷卻系統(tǒng),以維持設備在適宜的溫度下工作。
為了生產(chǎn)出滿足電子半導體行業(yè)需求的超純水,通常需要采用多級處理工藝,包括預處理、反滲透(RO)、離子交換、紫外線(UV)消毒、超濾(UF)和終端過濾等步驟。這些步驟可以去除水中的懸浮物、有機物、微生物、離子和氣體,最終得到符合半導體制造要求的超純水。
此外,超純水系統(tǒng)的設計和維護也非常重要。系統(tǒng)需要定期檢查和維護,以確保水質的穩(wěn)定性和可靠性。同時,還需要監(jiān)測關鍵的水質參數(shù),如電阻率、TOC、顆粒計數(shù)和微生物含量,以確保超純水始終符合嚴格的質量標準。
總之,電子半導體行業(yè)的超純水是保證產(chǎn)品質量和生產(chǎn)效率的關鍵因素。通過采用先進的水處理技術和嚴格的水質管理,可以確保超純水的純凈度,從而在半導體制造中發(fā)揮其重要作用。
半導體芯片用水主要在于前端晶棒硅切片冷卻用水,基板晶圓片檢測清洗用水,中段晶圓片濺鍍、曝光、電鍍、光刻、腐蝕等工藝清洗,后段檢測封裝清洗。
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了解詳情作為電解液的重要成分,水在電池中起著至關重要的作用,一般情況下的水中含有鈣鎂離子,固體顆粒、膠狀物質等導電物質,會縮短蓄電池的使用壽命,也不符合國家有關電池用水的標準規(guī)范,所以需要水質高的超純水作為電池電解液。
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