設(shè)備優(yōu)點
目前制備電子工業(yè)用超純水的工藝基本上是以上三種,其余的工藝流程大都是在以上三種基本工藝流程的基礎(chǔ)上進行不同組合搭配衍生而來?,F(xiàn)將他們的優(yōu)缺點分別列于右邊:
設(shè)備優(yōu)點
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第一種 采用離子交換樹脂
其優(yōu)點在于初投資少,占用的地方少,但缺點就是需要經(jīng)常進行離子再生,耗費大量酸堿,而且對環(huán)境有一定的破壞。
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第二種 采用反滲透作為預(yù)處理再配上離子交換
其特點為初投次比采用離子交換樹脂方式要高,但離子再生周期相對要長,耗費的酸堿比單純采用離子樹脂的方式要少很多。但對環(huán)境還是有一定的破壞性。
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第三種 采用反滲透作預(yù)處理
再配上電去離子(EDI)裝置
這是目前制取超純水最經(jīng)濟,最環(huán)保用來制取超純水的工藝,不需要用酸堿進行再生便可連續(xù)制取超純水,對環(huán)境沒什么破壞性。其缺點在于初投資相對以上兩種方式稍貴一點。
技術(shù)要求
采用膜表面高分子嫁接技術(shù),產(chǎn)水TOC在20PPB以下,更適用電子級超純水系統(tǒng)。 高TOC脫除率、高抗污染能力、低TOC溶出率,TOC達標沖洗時間短、先進配套電源技術(shù),能耗更低。
水質(zhì)標準
1、ASTM-D5127-2007《美國電子學(xué)和半導(dǎo)體工業(yè)用超純水標準》
2、歐盟電子級超純水標準
3、中國電子工業(yè)國家標準